全芯微首臺12英寸前道ArF勻膠顯影設備（Track）順利交付！
發布時間：2025-08-22
2025年8月19日，全芯微公司于客戶現場成功交付首臺自主研發的12英寸前道ArF勻膠顯影設備（Track），該設備正式投入客戶生產線，這標志著全芯微公司在突破高端IC制程設備壁壘方面取得了重大進展。
勻膠顯影設備是集成電路制造前道關鍵工藝設備之一，其技術與性能直接關系到光刻工藝的精細度和良率。長期以來，Track設備市場被少數國際巨頭所壟斷，該設備國產化率不足3％，其國產化突破是我國集成電路產業鏈自主可控的關鍵環節之一。
本次交付的12英寸ArF勻膠顯影機系統突破了勻膠顯影設備的多項關鍵技術，其集成了勻膠、顯影、對中等模塊化單元，通過機械手實現晶圓在各工藝模塊間的自動化傳輸，有效保障了生產流程的效率和穩定性。設備配置的高精密陶瓷熱盤單元和邊緣曝光（WEE）單元，具備良好的溫度控制均勻性和工藝一致性。該機型的成功開發，實現了公司在邏輯電路、存儲芯片、CMOS射頻電路、功率器件、驅動芯片和OLED等制造領域的應用突破。
首臺ArF勻膠顯影設備的成功交付，為公司進一步突破芯片先進制程奠定了基礎。全芯微將繼續聚焦超大規模集成電路領域，推進技術研發與產品創新，為客戶提供高性能、高可靠性的工藝設備解決方案，助力行業發展。
勻膠顯影設備是集成電路制造前道關鍵工藝設備之一，其技術與性能直接關系到光刻工藝的精細度和良率。長期以來，Track設備市場被少數國際巨頭所壟斷，該設備國產化率不足3％，其國產化突破是我國集成電路產業鏈自主可控的關鍵環節之一。
本次交付的12英寸ArF勻膠顯影機系統突破了勻膠顯影設備的多項關鍵技術，其集成了勻膠、顯影、對中等模塊化單元，通過機械手實現晶圓在各工藝模塊間的自動化傳輸，有效保障了生產流程的效率和穩定性。設備配置的高精密陶瓷熱盤單元和邊緣曝光（WEE）單元，具備良好的溫度控制均勻性和工藝一致性。該機型的成功開發，實現了公司在邏輯電路、存儲芯片、CMOS射頻電路、功率器件、驅動芯片和OLED等制造領域的應用突破。
首臺ArF勻膠顯影設備的成功交付，為公司進一步突破芯片先進制程奠定了基礎。全芯微將繼續聚焦超大規模集成電路領域，推進技術研發與產品創新，為客戶提供高性能、高可靠性的工藝設備解決方案，助力行業發展。